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本文標(biāo)題："精密加工工件表面粗糙度測量儀器-測量顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2013-6-5 22:43:25 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
由于工業(yè)的快速發(fā)展，使得各種精密加工產(chǎn)業(yè)急遽增加，而加工物件的表面平整度與缺陷，也日益要求精細(xì)。而非接觸式量測以光學(xué)法量測表面粗糙度，并不會對待測物造成破壞，
也提供不錯的解析度，即時(shí)性的量測優(yōu)點(diǎn)，所以已經(jīng)成為主流
趨勢。以下是一些光學(xué)法量測表面粗糙度的文獻(xiàn)回顧。在1972
年Robert A. Sprague[1]提出以空間相干光的概念，以測得表面
粗糙度�？臻g相干光(具有寬的光譜的頻寬)情況下，在一個透鏡
的成像平面附近形成一個斑點(diǎn)圖案。當(dāng)粗糙和光照度的相干長
度大小可比較時(shí)，將會發(fā)現(xiàn)斑點(diǎn)的對比與表面粗糙有關(guān)。
1986 年D. Pantzer 等人[2]提出用兩道同心光束
(concentric beams)掃描待測物，利用兩道光的相位差，
取得相對應(yīng)的高度
差。當(dāng)理論的高度解析度到0.4nm，橫向解析度可到3μm。
1998 年C. Chou 等人[3] 提出一個改良型的共光程外差輪廓
儀，比Zeeman雷射更具有對稱性及理想化的共光程結(jié)果，
也可降低Zeeman 雷射的相位誤差，其相位穩(wěn)定度為±2%/h。
實(shí)驗(yàn)表明系統(tǒng)垂直方向解析度可達(dá)0.2nm，
而在27mm的掃描范圍內(nèi)，表面輪廓量測的重覆性可達(dá)到
0.5nm。本文提出以表面電漿共振(SPR)結(jié)合共光程外差干涉術(shù)
(Common-path Interferometry)來測量平板玻璃內(nèi)部之平整度與
缺陷。在本架構(gòu)中，具有簡化架構(gòu)、即時(shí)性量測等優(yōu)點(diǎn)
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