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本文標(biāo)題："電子顯微鏡分析通過再結(jié)晶退火，變形織構(gòu)保持不變"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2016-2-9 19:58:23 本站主頁(yè)地址：http://m.vndmy.cn
電子顯微鏡分析通過再結(jié)晶退火，變形織構(gòu)保持不變
(首先是電子顯微術(shù)分析的結(jié)果)，使得有可能比伯格斯和貝克
殳一般的去分析定向形核和長(zhǎng)大的特殊機(jī)制問題(這種機(jī)制對(duì)某
些織構(gòu)的變化超作用)。討論變形織構(gòu)材料在退火中很可能出現(xiàn)的
以下三種類型的織構(gòu)變化．在方法學(xué)上是合理的：
(a)通過再結(jié)晶退火，變形織構(gòu)保持不變；
伯)在再結(jié)晶中，變形織構(gòu)被由一個(gè)或多個(gè)組分所組成的
不同的織構(gòu)全部或部分地取代，在再結(jié)晶的各個(gè)階段都能出現(xiàn)這
種取代：一次、二次或三次再結(jié)晶；在許多情況下．在再結(jié)晶早
期所形成的織構(gòu)被后期出現(xiàn)的其它織構(gòu)所取代；
(c)在再結(jié)晶中，變形織構(gòu)全部或部分地被任意取向的新
晶粒所取代，這種情況沒有前兩種普遍。
退火中變形織構(gòu)的保留
退火后，保留變形織構(gòu)機(jī)制的最簡(jiǎn)單解釋是，具有與變形基
體相同位向的再結(jié)晶核心的定向形核是決定性的過程，以后將指
出，這個(gè)理論是正確的，但不完善。
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