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本文標(biāo)題："光學(xué)顯微鏡應(yīng)用于分析金屬熱加工顯微結(jié)構(gòu)"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2014-12-8 1:50:44 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
光學(xué)顯微鏡應(yīng)用于分析金屬熱加工顯微結(jié)構(gòu)
在曝光工藝中，另一個(gè)變量是光刻膠的靈敏度。而這個(gè)參數(shù)又
是前烘溫度、表面反射情況、涂膠后版子的存放時(shí)間、光刻膠的批
號(hào)、版子的溫度和工藝區(qū)的溫度等的函數(shù)。這些因素都是可控的
另外，光刻膠曝光不足已成為提高生產(chǎn)率的一個(gè)突出的問題，
曝光不足將導(dǎo)致光刻膠顯影不均勻和顯影不干凈，從而使刻蝕
不均勻和刻蝕不完全。有時(shí)會(huì)留下叫層用光學(xué)顯微鏡無法觀察到的薄膜。
為了迅速檢查曝光不足情況，可對(duì)部分光刻膠進(jìn)行過曝光（2倍于正常曝光量)，
通過對(duì)顯影速率的變化來檢查曝光不足情況。如果曝光充分和適當(dāng)，
在顯影液中立刻會(huì)看見“紅云”出現(xiàn)。一般為10s左右。對(duì)各種不同的顯影方法，
“紅云，出現(xiàn)的時(shí)間略有不同。目前，檢測(cè)曝光量的設(shè)備發(fā)展很快，這
些設(shè)備能更快更簡(jiǎn)單地反映出曝光能量的變化情況。.
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