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本文標(biāo)題："氧化硅的溶解和再沉淀礦物截面分析圖像顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2015-5-26 23:12:41 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
氧化硅的溶解和再沉淀礦物截面分析圖像顯微鏡
我們定義成巖作用為在沉積之后變質(zhì)之前發(fā)生的物理的和化
學(xué)的作用。我們在此定義中排除源地巖石的風(fēng)化作用。石英顆粒
形態(tài)的細(xì)節(jié)是以前化學(xué)或機(jī)械幕(與表面的化學(xué)活動(dòng)性有關(guān)》產(chǎn)
生的結(jié)構(gòu)和顆粒所經(jīng)歷特定的成巖作用的環(huán)境三者之間為函數(shù)
關(guān)系。
總的來看，氧化硅的溶解和再沉淀是顯著的，它可以發(fā)生于
環(huán)境之中而成為一個(gè)整體。例如，氧化硅可以在溝谷側(cè)邊上部發(fā)
生溶解，而后沉淀在谷底的石英顆粒上，另一方面，氧化硅的溶
解可以發(fā)生于顆粒的一部分，而沉淀于另一部分上，例如壓溶作
用。溶解可發(fā)生于翻卷片上，同時(shí)又沉淀于同一穎�？锥刺�，導(dǎo)
致整個(gè)表面變光滑。在另一協(xié)況下，溶解可發(fā)生于碩粒某一區(qū)域
的翻卷片而沉淀于同一顆粒的其它片上。
石英可通過弗爾涅的靡蝕溶解現(xiàn)象而溶
解。這就為環(huán)境提供了足夠數(shù)量的氧化硅，導(dǎo)致局部過飽和而沉
淀。還發(fā)現(xiàn)隨粒徑的縮小，溶解的速率很快地提高
;砂粒上的突起可達(dá)到或小于0.1微米，溶解將消除細(xì)小
突起而使表面光滑。
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