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本文標題："高分辨率光學(xué)測量圖像顯微鏡-光學(xué)分析"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2014-8-24 23:02:31 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
高分辨率光學(xué)測量圖像顯微鏡-光學(xué)分析
高分辨率光學(xué)測量和結(jié)空間電荷技術(shù)都不能給出缺陷化學(xué)識別的信
息。這種信息通常是由電子自旋共振(ESR)結(jié)合其他方法得到的，例
如，當(dāng)樣品用不同能量的單色光照射時，將ESR譜與缺陷的能量位置關(guān)
聯(lián)起來。由于對不同光子能量，ESR激活中心的光子感生的價電荷變化
有不同的時間關(guān)系，光發(fā)射率的能譜分布可以被測量并可以與從結(jié)空間
電荷技術(shù),得到的譜進行比較。
另一個識別缺陷的技術(shù)是根據(jù)這樣的事實，即對于雜質(zhì)的原子量小
于基質(zhì)晶體的原子量時，雜質(zhì)的振動頻率一般遠高于聲子頻譜。由于強
的空間局域化，這就會在紅外區(qū)產(chǎn)生具有尖銳的光譜吸收帶的振動模。
結(jié)合同位素摻雜，于是可以識別某些缺陷中的有關(guān)原子。
而且，利用局域振動模(LVM)光譜與微擾相結(jié)合，例如極化探測
光和單軸應(yīng)力或靜壓應(yīng)力，人們就可以測定絡(luò)合物缺陷的結(jié)構(gòu)。正是強
有力的傅里葉變換光潛儀的發(fā)展，使得局域振動模光譜學(xué)的快速推廣成
為可能。
在元素和化合物半導(dǎo)體中已被成功研究的輕雜質(zhì)的例子是氫、碳和
氧。局域振動模光譜學(xué)在工業(yè)上也用于硅和集成電路生產(chǎn)中的各個階段
的控制。
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