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本文標(biāo)題："電鍍?nèi)芤航饘匐x子的化合物-金屬分析顯微鏡"
新聞來(lái)源：未知 發(fā)布時(shí)間：2016-10-5 23:40:44 本站主頁(yè)地址：http://m.vndmy.cn
電鍍?nèi)芤航饘匐x子的化合物-金屬分析顯微鏡
配合物是由配位體和金屬離子通過(guò)形成配位鍵而組成的一類新型的
化合物。所謂配位體，是指可提供孤對(duì)電子給金屬離子的化合物，
如水中的氧原子、氨中的氮原子、硫代硫酸根中的硫原子以及各種
有機(jī)酸中的氧原子和氨基酸中的氮、氧原子等均可提供孤對(duì)電子，
因此，氨、硫代硫酸鹽、氨基酸和有機(jī)羧酸就是通常我們所說(shuō)的配
位體。由于配位體和金屬離子幾乎無(wú)所不在，因此，不論在人體內(nèi)
，在自然界以及在許許多多的濕法工業(yè)制造過(guò)程中，都會(huì)用到配位
體或配合物，也就必然涉及到配合物的理論與應(yīng)用。以金屬制品的
電鍍加工為例，從制品的除油去污、酸洗或腐蝕、化學(xué)或電化學(xué)拋
光、電鍍、鍍后的鈍化與保護(hù)，無(wú)一不與配合物有關(guān)。
從電鍍?nèi)芤?以下簡(jiǎn)稱鍍液)的配制，到金屬鍍層在陰極上形成
，其過(guò)程是非常復(fù)雜的。這個(gè)過(guò)程通常包括一連串的反應(yīng)。例如，
要配制對(duì)設(shè)備腐蝕性小、鍍層質(zhì)量高的堿性鍍液，單用該金屬的鹽
類就不行了，因?yàn)橐话憬饘匐x子在中性或堿性時(shí)會(huì)生成氫氧化物沉
淀。要滿足上述要求，就必須選擇合適的配位體加入鍍液，并在一
定條件下使它生成對(duì)堿穩(wěn)定的配離子。這一過(guò)程就是形成配離子的
過(guò)程，這時(shí)的反應(yīng)稱為配位反應(yīng)。配制好的鍍液還可能有無(wú)機(jī)的或
有機(jī)的雜質(zhì)存在，使用前，必須進(jìn)行適當(dāng)?shù)奶幚�。如用活性炭、鋅
粉或通電處理等。也可加入適量的配位體使雜質(zhì)被掩蔽，而不在陰
極上析出，這叫做電化學(xué)掩蔽反應(yīng)。
若在配制好的電鍍?nèi)芤褐胁迦虢饘匐姌O，在電極與鍍液的界面
上就會(huì)產(chǎn)生電位差，平衡時(shí)的這種電位差就是該金屬的平衡電位。
有配位體與無(wú)配位體時(shí)，鍍液的平衡電位是不一樣的。配位體的加
入，一般使金屬離子的平衡電位向負(fù)的方向移動(dòng)，即配離子的平衡
電位一般比簡(jiǎn)單金屬離子的平衡電位更負(fù)些。這說(shuō)明配位反應(yīng)對(duì)金
屬的平衡電位有明顯的影響。
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