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本文標題："一氧化硅與其它氧化物或偏析的氧原子夾雜物金相檢驗"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2015-9-26 18:27:38 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
一氧化硅與其它氧化物或偏析的氧原子夾雜物金相檢驗
對用普通方法和用局部方法離析出的夾雜物進行金相檢驗及
巖相研究表明，在金屬中實際上存在著玻璃薄膜夾雜物。為了要
獲得薄膜夾雜物，對不同牌號的鋼和合金，在通常能夠得到高溫
塑性低的金屬的條件下進行了試驗熔煉。
對塑性很低的爐號的金屬象高性能的金屬一樣作了細致的金
相檢驗，特別細致地研究了鋼錠中央部分枝晶軸間的夾雜物，
因為正是在這個地方可以有希望得到最發(fā)達的薄膜夾雜物(由于
結晶遲緩)。為了暴露枝晶軸問的夾雜物，采用熱浸蝕方法，這
種方法不致腐蝕夾雜物而能顯露出夾雜物在枝晶結構中的位置。
一氧化硅這種雜質最傾向于樹枝狀偏析，并且積聚在成長中
的晶體的前沿。當金屬液的溫度降低到凝固點時，一氧化硅從過飽
和溶液中析出，這種一氧化硅與其它氧化物或偏析的氧原子結合
起來，在結晶中的金屬表面上形成玻璃薄膜。為了形成能使金
屬停止長大的這種玻璃性質的薄膜，只需要有厚度為幾百個分子
的無定形層就夠了。晶體的正常長大將被破壞。在有氧、～氧化
硅和硫這類雜質大量偏析的晶軸間區(qū)域中，上述過程表現(xiàn)得特別
明顯。偏析區(qū)域內的氧化硫的含量要比金屬中其余區(qū)域多好幾倍。
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