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本文標題："廣泛用來研究經(jīng)受變形與偏移的零件與結(jié)構(gòu)分析顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2015-9-17 12:13:49 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
廣泛用來研究經(jīng)受變形與偏移的零件與結(jié)構(gòu)分析顯微鏡
全息干涉儀
單次曝光、二次曝光和多次曝光這三種方法，構(gòu)成了全
息干涉測量法的基礎(chǔ)．
按單次曝光法一開始記錄的即是被研究對象的全息圖．
顯影后，將全息圖嚴格對準起始位置，這樣，復(fù)原的圖象就
準確地疊加在物體上。然后，移動被研究對象或使之變形，
進而觀察干涉圖樣．
有兩個相干波參與產(chǎn)生干涉：直接來自物鏡的和從全息
圖復(fù)原的．與傳統(tǒng)的干涉測量法相似，可以將第一個波稱為
工作波，而將第二個波稱為基準波．
單次曝光法有方便之處，它可以按實時以干涉圖樣變化
的形式記錄出對象的(工作波的)變化．有時，正是在全息
圖已曝光的部位進行全息圖的顯影，以此來消除壘息圖偏移
的危險．此法廣泛用來研究經(jīng)受變形與偏移的零件與結(jié)
構(gòu)．
二次曝光法一開始記錄的是被研究對象在甲位置、而后
是在乙位置上的全息圖．復(fù)原時，形成物體的兩幀已移動的
圖象，而在其重疊區(qū)間觀察干涉圖樣．在研究小風洞中的氣
體不均勻性時，第一幀全息圖是在無氣流時記錄的，而第二
幀則是在模擬裝置鼓風時記錄的．干涉圖樣是用通用的方
式——目視法、照相法與光電照相法來記錄的．
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