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本文標(biāo)題:"試樣表面的清潔和機(jī)械損傷微觀分析電子顯微鏡"

新聞來(lái)源:未知 發(fā)布時(shí)間:2015-7-27 2:27:53 本站主頁(yè)地址:http://m.vndmy.cn

試樣表面的清潔和機(jī)械損傷微觀分析電子顯微鏡

在掃描電鏡的正常觀察條件下,其掃描電子像(包括二次電
子像,背反射電子像或吸收電子像)所顯示的襯度效應(yīng)主要有三
種,即表面形貌襯度,原子序數(shù)襯度和表面電場(chǎng)和磁場(chǎng)所貢獻(xiàn)的
襯度。但是,在特殊的光路條件下(例如在滿足觀察電子通道效
應(yīng)的電子束的電子光學(xué)條件下),則所獲得的掃描電子像,除了能
顯示上述襯度效應(yīng)外,還包括有反映晶體位向和晶體缺陷的襯
度,這種反映晶體位向和晶體缺陷的襯度,稱為結(jié)晶學(xué)襯度。

    理論分析表明,結(jié)晶學(xué)襯度是來(lái)源于電子通道效應(yīng)。在第二
章中曾經(jīng)指出,當(dāng)高能電子進(jìn)入到晶體試樣時(shí),由于入射電子與
晶格中原子相互作用,將會(huì)發(fā)生散射過(guò)程。但是,入射電子被晶
格中原子的散射幾率是同電子束的入射方向有關(guān),在入射角小于
衍射角的情況下,被背反射的幾率較大;反之,在入射角大于衍
射角的情況下,被背散射的幾率較小,這種現(xiàn)象稱為電子通道效
應(yīng)。在滿足通道電子束的觀察條件下,如果電子束的入射方向的
變化范圍比較大

對(duì)試樣要求
    因?yàn)殡娮油ǖ佬?yīng)是發(fā)生在接近試樣的表面,故試樣表面的
清潔和不受機(jī)械損傷是十分重要的。經(jīng)驗(yàn)表明,只有在晶體的外
延層和晶體生長(zhǎng)的表面,或經(jīng)過(guò)仔細(xì)化學(xué)拋光和電解拋光的試樣
表面,且表面清潔無(wú)沾污,才容易觀察到結(jié)晶學(xué)襯度。如果試樣
表面存在如下情況:(o)表面被污染;(b)表面受機(jī)械加工;
(c)表面是非晶態(tài);  (d)表面晶粒度過(guò)于細(xì)小,使能完
全滿足上述的電子光學(xué)條件,也觀察不到結(jié)晶學(xué)襯度。

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