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本文標題："鍍層中不含硫或含有非常少量-鍍層檢測顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2015-6-13 12:30:28 本站主頁地址：http://m.vndmy.cn
鍍層中不含硫或含有非常少量-鍍層檢測顯微鏡
外延生長
當晶體基底內(nèi)的原子排列穩(wěn)定存在于鍍層中時，這種
生長就定義為個延生長，隨著鍍層厚度增加，基底影響
減小，減小的速度受基體類型和狀態(tài)及一定電鍍條件的
影響，當基底具有大的晶粒時，如果表面是經(jīng)過機械拋
光和延伸，基底影響迅速消失，電流密度的增加，極化
的增加，在溶液中加入表面活性有機化合物，這些都是
減少外延生長程度的因素，在早期階段沉積多晶材料就
會出現(xiàn)晶格畸變。
構(gòu)表示鍍層中不含硫或至少是含有非常少量的硫，而
層狀結(jié)構(gòu)表示硫的存在，金相學是研究鎳加鉻組合鍍層
腐蝕機理的有效方法：形成針孔類型在第十章插圖中說
明，浸蝕揭示了柱狀和層狀鍍層間的邊界，因此，除了
能檢查腐蝕的方式外，還提供了確定雙層鍍層中的兩個
鎳層的厚度方法。
即使是大晶粒的電沉積物與大部分大塊金屬相比，也
具有相當小的晶粒尺寸，為了比較，經(jīng)淬火的可鍛鎳的
結(jié)構(gòu)，當試樣用顯微鏡檢查時，觀察到可鍛材料中的位
錯，在電鍍鎳中，當薄膜用顯微鏡檢查時，末檢測到位
錯的活動，這種情況使人認為位錯是受雜質(zhì)原子牽制。
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