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光學(xué)元件其表面鍍上單層、雙層、三層或多層不同用途的膜
光學(xué)元件除前面所介紹的必須具備的技術(shù)條件外,往往
還必須具備其他特殊的技術(shù)要求和質(zhì)量指標(biāo)。
將分別對光學(xué)元件表而薄腆、光學(xué)元件的膠合、分劃元件和
光柵的技術(shù)要求加以敘述。
為了使光學(xué)元件其有所需的光學(xué)、電學(xué)、物理化學(xué)性
能,可以在其表面鍍上單層、雙層、三層或多層不同用途的
薄膜,使光學(xué)元件達(dá)到一定的光譜特性和其他性能。
光學(xué)元件表面薄膜獲得的方法主女可分為物理(真空)
鍍膜和化學(xué)鍍膜兩大類。由鍍膜方法所制得的光學(xué)元件,稱
為光學(xué)鍍膜元件,簡稱為鍍膜件。
由于真空技術(shù)和薄膜監(jiān)控技術(shù)的發(fā)展,較易獲得性能穩(wěn)
定、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的膜層。所以,在生產(chǎn)中多以真空鍍膜方法為
主。
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